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オーム社 岸野正剛
本書はVLSI技術の総合理解のために、特に材料や個別要素技術に携わる方々に必要なデバイス特性、特性の不良原因、特性に向上などや材料、プロセスの関係についての知識を得られるようにしました。
1章 LSI技術の概論2章 デバイスの基本特性の不良原因3章 結晶4章 酸化5章 不純物の拡散とイオン打込み6章 堆積薄膜7章 デバイス、プロセスの最近の話題
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[BOOKデータベースより]
本書はVLSI技術の総合理解のために、特に材料や個別要素技術に携わる方々に必要なデバイス特性、特性の不良原因、特性に向上などや材料、プロセスの関係についての知識を得られるようにしました。
1章 LSI技術の概論
2章 デバイスの基本特性の不良原因
3章 結晶
4章 酸化
5章 不純物の拡散とイオン打込み
6章 堆積薄膜
7章 デバイス、プロセスの最近の話題