- ＥＵＶ光源の開発と応用
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- 価格
- 71,500円（本体65,000円＋税）
- 発行年月
- 2007年02月
- 判型
- Ｂ５
- ISBN
- 9784882316664
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[BOOKデータベースより]
第１編 ＥＵＶ光源の開発（露光装置とＥＵＶリソグラフィ；ＥＵＶリソグラフィ用光源プラズマ；プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状；究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマＸ線源 ほか）
第２編 ＥＵＶリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（Ｘ線多層膜の物理；ＥＵＶ用反射型マスク基板；ＥＵＶ用マスク；ＥＵＶレジストの特異性と反応機構 ほか）